درجات معمول مس خالص و تفاوت آنها

مس آزاد{0}}اکسیژن تحت کنترل دقیق اکسیژن تولید می‌شود و میزان اکسیژن آن معمولاً کمتر از 10 ppm است. از شکنندگی هیدروژن در دماهای بالا جلوگیری می کند و رسانایی پایداری دارد.

Cu{0}}OF (EN) / C10100 (ASTM) / TU1 (GB)

این بالاترین-مس بدون اکسیژن-با ناخالصی و محتوای اکسیژن بسیار کم است. رسانایی الکتریکی آن می تواند به بیش از 100٪ IACS برسد و انعطاف پذیری و جوش پذیری عالی دارد. عمدتاً در اجزای الکترونیکی با کارایی بالا، دستگاه‌های خلاء، مواد انتقال سیگنال با فرکانس بالا، محصورسازی ابررسانا و سایر زمینه‌های دقیق که به عملکرد الکتریکی بسیار پایدار نیاز دارند، استفاده می‌شود.

TU2 (GB) / C10200 (ASTM)

مشابه TU1، اما با ناخالصی های مجاز کمی بالاتر، متداول ترین مس بدون اکسیژن-در صنعت است. عملکرد و هزینه را متعادل می کند و به طور گسترده در کابل ها، هادی ها، قاب های سرب مدار مجتمع و مواد جوش استفاده می شود.

مس سخت پربازده ترین و پرمصرف ترین مس خالص است که میزان اکسیژن آن معمولاً بین 100 تا 650 ppm است. رسانایی و فرآیندپذیری خوبی دارد، اما در معرض تردی هیدروژنی در دمای بالا{3} اتمسفر هیدروژنی است.

Cu{0}}ETP (EN) / C11000 (ASTM) / T2 (GB)

این معرف ترین و متداول ترین مس سخت است که رسانایی آن بالاتر از 97% IACS است. دارای هزینه متوسط ​​و عملکرد جامع عالی است و اولین انتخاب برای قطعات رسانای الکتریکی و حرارتی است. کاربردهای معمولی شامل کابل‌های برق، شینه‌ها، سیم‌پیچ‌های موتور، کویل‌های ترانسفورماتور، مبدل‌های حرارتی، لوله‌کشی و قطعات مسی تزئینی است.

T1 (GB) / C10300 (ASTM)

مس گام سخت-با خلوص بالا، با ناخالصی های کمتر از T2، رسانایی و مقاومت در برابر خوردگی کمی بهتر، که بیشتر در-محصولات الکتریکی با دقت بالا و اتصالات الکترونیکی استفاده می شود.

T3 (GB)

خلوص پایین تر از T2، با محتوای ناخالصی بالاتر، هزینه کمتر، مناسب برای قطعات صنعتی عمومی با نیازهای پایین برای رسانایی، مانند قطعات مهر و موم سخت افزاری، نیازهای روزانه و قطعات ساختاری.

مس دی اکسید شده توسط فسفر، لیتیوم یا عناصر دیگر، با محتوای اکسیژن بسیار کم، عملکرد جوشکاری خوب و بدون شکنندگی هیدروژن، اکسیده می شود. فسفر-مس دی اکسید شده رایج ترین است.

Cu{0}}DLP (EN) / C12000 (ASTM) / TUP (GB)

فسفر{0}}مس اکسید زدایی شده، فسفر ردیابی باقیمانده عملکرد جوشکاری و لحیم کاری را بهبود می بخشد، اما هدایت الکتریکی را اندکی کاهش می دهد (حدود 85 تا 95٪ IACS). این به طور گسترده ای در لوله های آب، لوله های گاز، لوله های تبرید، مبدل های حرارتی، تجهیزات HVAC و اجزای مختلف جوش استفاده می شود.

Cu{0}}DHP (EN) / C12200 (ASTM) / TUMn (GB)

مس اکسیدزدایی شده با فسفر بالا، با جوش پذیری بهتر، مناسب برای سازه های جوشکاری پیچیده و اتصالات لوله که نیاز به عملکرد پردازش بالایی دارند، و یک ماده استاندارد برای لوله کشی مسی و خطوط لوله تبرید در سراسر جهان است.

تفاوت اساسی بین گریدهای مس خالص در محتوای اکسیژن، سطح ناخالصی، عناصر اکسید زدایی و هدایت الکتریکی نهفته است:

محتوای اکسیژن:OFC کمترین میزان اکسیژن را دارد و پس از آن مس دی اکسید شده و مس زمین سخت بیشترین میزان اکسیژن را دارد. محتوای اکسیژن پایداری دمایی بالا و مقاومت در برابر شکنندگی هیدروژن را تعیین می‌کند.

هدایت الکتریکی:OFC > مس زمین سخت > فسفر{0}}مس اکسید زدایی شده. سناریوهای{2}}رسانایی بالا، مس بدون اکسیژن-یا سخت را ترجیح می‌دهند.

قابلیت جوشکاری:مس دی اکسید شده بهترین است، به ویژه برای جوشکاری و لحیم کاری در دمای بالا-.

هزینه و کاربرد:مس زمین سخت T2/C11000 دارای بهترین نسبت هزینه{2}}و بیشترین مصرف است. اکسیژن-مس آزاد در الکترونیک-بالا استفاده می‌شود. مس دی اکسید شده در خطوط لوله و قطعات جوشکاری غالب است.